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超薄混合氧化层的堆叠结构的形成方法 (Patent License Number:CN201310204693.1)

吴华强V1 清华大学

2013-09-04至 2033-05-28

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Patent Abstract

本发明提出一种超薄混合氧化层的堆叠结构的形成方法,包括以下步骤:提供第一堆叠材料层;将第一堆叠材料层的部分氧化形成第一氧化层;在第一氧化层之上形成第二堆叠材料层;进行快速热退火处理,在第一氧化层与第二堆叠材料层的接触界面形成第二氧化层。本发明的方法具有简便易行,可控性好的优点。

Patent Description

主权项: 一种超薄混合氧化层的堆叠结构的形成方法,其特征在于,包括以下步骤:S1.提供第一堆叠材料层;S2.将所述第一堆叠材料层的部分氧化形成第一氧化层;S3.在所述第一氧化层之上形成第二堆叠材料层;S4.进行快速热退火处理,在所述第一氧化层与所述第二堆叠材料层的接触界面形成第二氧化层。